特許
J-GLOBAL ID:202103003416744262

ガス充填装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人広和特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-204461
公開番号(公開出願番号):特開2018-066420
特許番号:特許第6830788号
出願日: 2016年10月18日
公開日(公表日): 2018年04月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ディスペンサ筐体内に配設された圧縮ガスの充填機構と、 該充填機構に接続されている充填ホースの先端に設けられ、ノズル本体と充填口を開閉する弁を内蔵した接続カプラからなる充填ノズルと、 前記ディスペンサ筐体に設けられ、前記充填ノズルが取外し可能に掛止めされるノズル掛けと、 該ノズル掛けに設けられ、前記充填ノズルのノズル本体と接続カプラとを係合状態に保持する係合部材と、 を備えたガス充填装置において、 前記係合部材は、 前記充填ノズルを前記ノズル掛けに掛止めするときに、この掛止め方向で前記充填ノズルのノズル本体が当接して変位する当接部位と、 前記当接部位の変位に追従して、前記ノズル掛けに掛止めされた前記充填ノズルの前記接続カプラの充填口を閉塞させる位置まで変位する閉塞部位とを含んで構成されていることを特徴とするガス充填装置。
IPC (1件):
F17C 5/06 ( 200 6.01)
FI (1件):
F17C 5/06
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 水素ガス充填カプラ用ホルダー
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2014-211902   出願人:タキゲン製造株式会社
  • ガス充填装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-172799   出願人:株式会社タツノ・メカトロニクス
  • ガス充填装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2012-265125   出願人:株式会社タツノ
審査官引用 (2件)
  • 水素ガス充填カプラ用ホルダー
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2014-211902   出願人:タキゲン製造株式会社
  • ガス充填装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-172799   出願人:株式会社タツノ・メカトロニクス

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