特許
J-GLOBAL ID：202103003624353455
ゲル数が減少し、反応器汚損が少ないエチレン系ポリマーを生成する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小林 浩
, 片山 英二
, 大森 規雄
, 新井 剛
, 鈴木 康仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-511379
特許番号：特許第6823647号
出願日： 2016年09月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 エチレン系ポリマーを形成する方法であって、前記方法が、エチレン及び少なくとも1つの連鎖移動剤系を含む反応混合物を重合することを含み、
前記重合が、少なくとも1つのフリーラジカル開始剤の存在下で行われ、
前記重合が、少なくとも3つの反応ゾーンを有する少なくとも1つの管型反応器を含む反応器構成内で行われ、
少なくとも2つの反応ゾーンが、エチレン供給物を受け、
第1の反応ゾーン内の重合度(DP)が、(5/LCBf)*3150以下であり、
前記方法によって形成される前記エチレン系ポリマーが以下の特性、
(A)LCBf≧(4.7+0.5*log(I2))、及び
(B)0.2〜25dg/分のI2
を有し、
I2は、ASTM D 1238に準拠して190°C、2.16kgの条件で測定される、前記方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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