特許
J-GLOBAL ID:202103003784304930

Cs及び/又はRb-CHA型及び/又はPHI型ゼオライトの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-202865
公開番号(公開出願番号):特開2021-075419
出願日: 2019年11月08日
公開日(公表日): 2021年05月20日
要約:
【課題】有機構造規定剤を使用する必要が無く、より簡便且つ環境負荷のより小さいゼオライトの製造方法、及び/又は二酸化炭素吸脱着等温線がシグモイド曲線を含むゼオライト及びその製造方法を提供すること。【解決手段】(工程1)FAU型ゼオライト及び固体アルカリ源を含む固体状混合物を水蒸気雰囲気下で有機構造規定剤の添加を必要とせずに加熱処理してNa-CHA型及び/又はNa-PHI型ゼオライトを結晶転換法によって得る工程、及び(工程2)前記工程1で得られたCHA型及び/又はPHI型ゼオライト中のカチオンをセシウムイオン及び/又はルビジウムイオンにイオン交換してCs及び/又はRb-CHA型及び/又はPHI型ゼオライトを得る工程、を含む、Cs及び/又はRb-CHA型及び/又はPHI型ゼオライトの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(工程1)FAU型ゼオライト及び固体アルカリ源を含む固体状混合物を水蒸気雰囲気下で有機構造規定剤の添加を必要とせずに加熱処理してNa-CHA型及び/又はNa-PHI型ゼオライトを結晶転換法によって得る工程、及び (工程2)前記工程1で得られたCHA型及び/又はPHI型ゼオライト中のカチオンをセシウムイオン及び/又はルビジウムイオンにイオン交換してCs及び/又はRb-CHA型及び/又はPHI型ゼオライトを得る工程、 を含む、Cs及び/又はRb-CHA型及び/又はPHI型ゼオライトの製造方法。
IPC (4件):
C01B 39/46 ,  C01B 39/28 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/30
FI (4件):
C01B39/46 ,  C01B39/28 ,  B01J20/18 D ,  B01J20/30
Fターム (42件):
4G066AA62A ,  4G066AA62B ,  4G066BA09 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA35 ,  4G066DA01 ,  4G066FA02 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34 ,  4G066FA37 ,  4G073BA01 ,  4G073BA02 ,  4G073BA04 ,  4G073BA05 ,  4G073BA06 ,  4G073BA07 ,  4G073BA75 ,  4G073BA81 ,  4G073CZ03 ,  4G073CZ08 ,  4G073CZ17 ,  4G073CZ50 ,  4G073FA17 ,  4G073FC04 ,  4G073FC12 ,  4G073FC13 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073FD08 ,  4G073FD24 ,  4G073FE02 ,  4G073FE10 ,  4G073GA01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA12 ,  4G073GA14 ,  4G073GA19 ,  4G073GB05 ,  4G073UA06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • Xenon adsorption in synthetic chabazite zeolites

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