特許
J-GLOBAL ID：202103004517735350
真空インタラプタ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 丸山国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-551780
公開番号（公開出願番号）：特表2021-507491
出願日： 2018年12月13日
公開日（公表日）： 2021年02月22日
要約：
真空インタラプタを再調整する方法を開示するもので、当該方法は、真空インタラプタが再調整に適しているかどうかを決定することを含む。真空インタラプタが再調整に適している場合、方法は、任意選択的にマグネトロンポンプを使用して真空インタラプタ内部の圧力を下げること、及び/又は真空インタラプタの真空エンベロープのエンドキャップに少なくとも1つの穴を形成すること、エンドキャップの少なくとも1つの穴を通して真空エンベロープの内部に少なくとも1つの清浄溶液を導入することによって真空エンベロープの内部の真空インタラプタの構成要素をクリーニングすること、真空エンベロープの内部から清浄溶液を除去すること、前記真空エンベロープの内部に面する表面にゲッター材料を有するプラグを前記少なくとも1つの穴に配備すること、真空エンベロープの内部に真空が再び作られるように、プラグを前記少なくとも1つの穴に真空封止することを含む。【選択図】 図2A
請求項（抜粋）：
真空インタラプタを再調整する方法であって、
真空インタラプタが再調整に適しているかどうかを決定することを含み、真空インタラプタが再調整に適している場合、
真空インタラプタの真空エンベロープのエンドキャップに少なくとも1つの穴を形成すること、
真空エンベロープ内部にある真空インタラプタの構成要素をクリーニングすること、
真空エンベロープの内部から清浄溶液を除去すること、
真空エンベロープの内部に面する表面にゲッター材料を有するプラグを、前記少なくとも1つの穴にプラグを配備すること、及び
真空エンベロープの内部に真空が再び作られるように、プラグを前記少なくとも1つの穴に真空シールすること、を含む方法。
IPC (2件)：
H01H 33/662
, H01H 33/668
H01H33/662 F
, H01H33/668 K
, H01H33/668 Z
