特許

J-GLOBAL ID：202103005256308498

ワーク加工用シートおよび加工済みワークの製造方法

発明者： 小笠原 孝文 ,  坂本 美紗季 ,  佐伯 尚哉
出願人/特許権者： リンテック株式会社
代理人 (3件)： 早川 裕司 ,  村雨 圭介 ,  飯田 理啓
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018033767
公開番号（公開出願番号）：WO2019-111481
出願日： 2018年09月12日
公開日（公表日）： 2019年06月13日
要約：

基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、前記粘着剤層が、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成されており、前記粘着剤層における前記基材とは反対側の面におけるX線光電子分光分析で測定した酸素原子比率R0が、28原子%以下であり、前記粘着剤層内の位置のうち、前記粘着剤層における前記基材とは反対側の面から深さ100nmの位置におけるX線光電子分光分析で測定した酸素原子比率R100が、20原子%以上、29原子%以下であることを特徴とするワーク加工用シート。かかるワーク加工用シートは、加工後のワークに付着した粘着剤層に由来する粘着剤を、流水によって良好に除去することができるとともに、加工後のワークを良好に分離することが可能である。

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、 前記粘着剤層が、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成されており、 前記粘着剤層における前記基材とは反対側の面におけるX線光電子分光分析で測定した酸素原子比率R0が、28原子%以下であり、 前記粘着剤層内の位置のうち、前記粘着剤層における前記基材とは反対側の面から深さ100nmの位置におけるX線光電子分光分析で測定した酸素原子比率R100が、20原子%以上、29原子%以下である ことを特徴とするワーク加工用シート。

IPC (5件)：

H01L 21/301 ,  C09J 7/38 ,  C09J 201/00 ,  C09J 133/08 ,  C09J 133/14

FI (5件)：

H01L21/78 M ,  C09J7/38 ,  C09J201/00 ,  C09J133/08 ,  C09J133/14

Fターム (27件)：

4J004AA01 ,  4J004AA10 ,  4J004AB01 ,  4J004AB07 ,  4J004CA03 ,  4J004CB03 ,  4J004CC02 ,  4J004DB02 ,  4J004EA06 ,  4J004FA08 ,  4J040DF041 ,  4J040DF061 ,  4J040GA02 ,  4J040GA08 ,  4J040JA09 ,  4J040JB08 ,  4J040JB09 ,  4J040MA01 ,  4J040MB05 ,  4J040NA19 ,  4J040PA23 ,  4J040PA42 ,  5F063AA16 ,  5F063CA04 ,  5F063EE22 ,  5F063EE43 ,  5F063EE75