特許
J-GLOBAL ID：202103005913989735

酸化タングステン分散液及びこれを用いた酸化タングステン膜の製造方法

発明者：
中島 智彦

中島 智彦 について

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佐山 和弘

佐山 和弘 について

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土屋 哲男

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出願人/特許権者：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

国立研究開発法人産業技術総合研究所 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-160749
公開番号（公開出願番号）：特開2018-027872
特許番号：特許第6938009号
出願日： 2016年08月18日
公開日（公表日）： 2018年02月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材に塗布し焼成されて酸化タングステン膜を与える酸化タングステンナノ粒子分散液であって、 酸化タングステンWO3-X(xは0以上0.5以下)ナノ粒子破砕粉末を、アルコールを主要成分とする溶媒中にタングステンアルコキシド及び/又はタングステン有機酸塩をタングステンイオン換算で0.5mM以上50mM以下の濃度で溶解させた溶液に、10〜20重量%となるように分散させたものであり、前記溶媒を蒸発により除去したときに酸化タングステンナノ粒子の一次粒子径を100体積%の分布確率で1〜200nmの範囲の大きさとした破砕粉末からなるナノポーラス構造として観察されることを特徴とする酸化タングステンナノ粒子分散液。
IPC (5件)：
C01G 41/02 ( 200 6.01) ,  H01G 9/20 ( 200 6.01) ,  B82Y 30/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01) ,  C25B 11/042 ( 202 1.01)
FI (7件)：
C01G 41/02 ,  H01G 9/20 111 A ,  H01G 9/20 111 C ,  H01G 9/20 111 B ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00 ,  C25B 11/042
引用文献：
審査官引用 (1件)
  • Photoelectrochemical Reaction for the Efficient Production of Hydrogen and High-Value-Added Oxidat

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