特許
J-GLOBAL ID：202103006577119448
流動層乾燥機及びこれを用いた流動層乾燥システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人山田特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-180729
公開番号（公開出願番号）：特開2018-044732
特許番号：特許第6862729号
出願日： 2016年09月15日
公開日（公表日）： 2018年03月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平面視で渦巻状の通路をなすよう区画された乾燥室と、
該乾燥室に流動化ガスを送給する送風箱と、
前記乾燥室に被乾燥物を投入するための投入口と、
前記乾燥室から被乾燥物を排出するための排出口を備えた乾燥炉を備え、
前記乾燥室に投入された被乾燥物と、前記乾燥室に送給される流動化ガスにより流動層を形成し、該流動層を前記乾燥室により構成される渦巻状の通路に沿って移動させながら被乾燥物の水分を除去するよう構成され、
前記投入口は、前記渦巻状の通路をなす乾燥室の中央部に備えられ、前記排出口は、前記渦巻状の通路をなす乾燥室の周縁部に備えられ、
前記乾燥室内の温度は中央部ほど高く、周縁部へ向かうほど低くなるよう構成された流動層乾燥機。
IPC (3件)：
F26B 3/08 ( 200 6.01)
, F26B 3/084 ( 200 6.01)
, F26B 25/00 ( 200 6.01)
F26B 3/08
, F26B 3/084
, F26B 25/00 F
