特許
J-GLOBAL ID：202103006794107210
放射線ターゲット標示
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
笛田 秀仙
, 五十嵐 貴裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-521424
公開番号（公開出願番号）：特表2020-537568
出願日： 2018年10月17日
公開日（公表日）： 2020年12月24日
要約：
位相コントラスト放射線システムからの放射線ビームの所望のターゲット放射線領域を被検体上に標示するシステム及び方法は、ライトフィールドを被検体に投射するための第1及び第2のライトフィールド生成器を有する。ライトフィールドは両方とも、放射線ビームの経路から分離されている。両方のライトフィールドの重なり合う領域は、ターゲット放射線領域を標示する。ライトフィールドは、放射線ビーム経路と実質的に合致しない。
請求項（抜粋）：
位相コントラスト放射線システムの放射線ビームの所望のターゲット放射線領域を、被検体上に標示するシステムであって、
第1のライトフィールドを生成し、前記被検体に向けて第1のライトフィールド方向に投射する第1のライトフィールド生成器と、
第2のライトフィールドを生成し、前記被検体に向けて第2の異なるライトフィールド方向に投射する第2のライトフィールド生成器と、を有し、
前記第1のライトフィールド及び前記第2のライトフィールドは、使用時、前記被検体上で少なくとも部分的に重なり合い、所望のターゲット放射線領域を標示する重なり合うライトフィールド領域を形成し、前記放射線ビームは、使用時、ビーム経路に沿って放出され、前記第1のライトフィールド及び前記第2のライトフィールドは、前記ビーム経路と実質的に合致しない、システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4C093AA30
, 4C093CA32
, 4C093EA18
, 4C093EE30
