特許
J-GLOBAL ID：202103007517050160
反射層の製造方法及び反射層
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-529786
特許番号：特許第6806902号
出願日： 2018年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記組成物Xを基板上に塗布して組成物層を形成する工程1と、
前記組成物層を加熱して、前記組成物層中の液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする工程2と、
コレステリック液晶相の状態となった前記組成物層を、螺旋ピッチが縮小するように冷却又は加熱する工程3と、
前記工程1と前記工程2との間、前記工程2と前記工程3との間、又は、前記工程3の後に、前記組成物層の少なくとも一部の領域に光を照射し、前記組成物層中のキラル剤Aを感光する工程4と、を有する反射層の製造方法。
組成物X:
液晶化合物と、
光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤であって、イソソルビド系光学活性化合物、イソマニド系光学活性化合物、及びビナフトール系光学活性化合物からなる群より選ばれ、且つ光異性化部位を有する、キラル剤Aと、
冷却又は加熱によって螺旋誘起力が大きくなるキラル剤であって、イソソルビド系光学活性化合物、イソマニド系光学活性化合物、及びビナフトール系光学活性化合物からなる群より選ばれる、キラル剤Bと、を含む組成物。
IPC (2件)：
G02B 5/26 ( 200 6.01)
, G02B 5/30 ( 200 6.01)
