特許
J-GLOBAL ID：202103008640882826

ガス供給システム

発明者：
伊藤 英樹

伊藤 英樹 について


出願人/特許権者：
大同特殊鋼株式会社

大同特殊鋼株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人上野特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-125038
公開番号（公開出願番号）：特開2017-226893
特許番号：特許第6790494号
出願日： 2016年06月24日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 雰囲気ガス中で金属材料の熱処理を行う熱処理炉に前記雰囲気ガスを供給するガス供給システムにおいて、 前記ガス供給システムは、 一酸化炭素と水素を含んだ還元ガスを前記熱処理炉に供給する還元ガス供給部と、 水素ガスを前記熱処理炉に供給する水素供給部と、 前記熱処理炉から排出されたガスを回収し、再利用ガスとして前記熱処理炉内に戻す再利用部と、 前記熱処理炉内の雰囲気ガスのカーボンポテンシャル値が所定の値となるように、前記水素ガス、前記再利用ガス、前記還元ガスの少なくとも1つの前記熱処理炉への供給量を制御する供給制御を行う供給制御部と、を有し、 前記水素ガスを、前記還元ガスを希釈するベースガスとして用い、前記水素ガスを前記金属材料の還元に寄与させないようにして、前記供給制御を行うことを特徴とするガス供給システム。
IPC (3件)：
C21D 1/76 ( 200 6.01) ,  C21D 1/74 ( 200 6.01) ,  C23C 8/22 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C21D 1/76 Q ,  C21D 1/74 K ,  C23C 8/22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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