特許

J-GLOBAL ID：202103008849166281

等高線生成システム及びそのプログラム

発明者： 千葉 達朗
出願人/特許権者： アジア航測株式会社
代理人 (3件)： 水野 浩司 ,  松下 亮 ,  納口 慶太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-210350
公開番号（公開出願番号）：特開2021-082112
出願日： 2019年11月21日
公開日（公表日）： 2021年05月27日
要約：

【課題】等高線生成システムを提供する。【解決手段】基盤地図用データベース110と、5mDEMメッシュ読込部112と、地理座標用XYZポイントファイル114と、平面直角用XYZポイントファイル118と、微細間隔標高値ラスタ化処理部130と、等高線生成部145と、重ね合せ部143等を備えて、緯度経度で定義された一定の大きさのメッシュ(5mDEM)を平面直角座標系に順次、投影変換し、これらの平面直角メッシュのX方向を奇数分割して、これらの分割長の平均長でラスター用メモリのX軸、Y軸を分割して微細格子群(mi:0.559m)を定義する。そして、これらの微細格子(mi)毎の標高値を内挿補間し、微細格子(mi)と同じ平滑後の標高値を有して閉曲する微細格子(mi)群を通る直線群の塊をベクター化した等高線情報を生成し、これに標準地図画像を重ねて表示部200に表示する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

緯度経度で定義された数値標高モデルを記憶した数値標高モデル用メモリと、 前記数値標高モデルに緯度経度で定義されている一定の大きさのメッシュを順次、平面直角座標系で定義された平面直角メッシュ用メモリに投影変換した平面直角メッシュ群を生成する平面直角座標変換部と、 平面直角座標系で定義されたラスター用メモリと、 前記平面直角メッシュ用メモリの前記平面直角メッシュ毎に、この平面直角メッシュのX軸方向となる横辺長を奇数分割し、これらの分割長を平均化した平均長で前記ラスター用メモリのX軸、Y軸を分割して前記ラスタ用メモリのX-Y平面に縦横が前記平均長の微細格子群を定義する微細格子生成処理部と、 前記ラスタ用メモリの微細格子毎の標高値を内挿補間して割付ける標高値補間部と、 前記ラスタ用メモリの全ての微細格子の内挿補間後の標高値の内で、起点となる前記微細格子を指定し、この指定した微細格子と同じ標高値を有して閉曲する微細格子群を通る直線を求め、これらの直線をベクター化し、これを等高線ベクターとして生成する等高線生成部と、 前記等高線ベクターを画像にして表示用メモリに書き込んで表示する表示処理部と を有することを特徴とする等高線生成システム。

IPC (2件)：

G06T 11/60 ,  G09B 29/00

FI (2件)：

G06T11/60 300 ,  G09B29/00 Z

Fターム (6件)：

2C032HC23 ,  5B050AA07 ,  5B050BA06 ,  5B050BA17 ,  5B050EA13 ,  5B050EA19