特許

J-GLOBAL ID：202103009199825540

バッチ処理用注入器及びその使用方法

発明者： ユドフスキー, ジョゼフ ,  グリフィン, ケヴィン ,  スリイラム, マンディアム
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-565798
特許番号：特許第6951257号
出願日： 2016年06月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】内部でサセプタアセンブリが複数の基板を保持するように構成されている、カルーセル型のALDバッチ処理チャンバのための、前記複数の基板に対してガスを供給するように構成された注入器ユニットであって、 前記注入器ユニットの長さに沿って延在する前端の反応性ガスポート、 前記注入器ユニットの前記長さに沿って延在する後端の反応性ガスポート、及び、 前記前端の反応性ガスポートと前記後端の反応性ガスポートの周りに境界を形成し、且つ、前記前端の反応性ガスポートと前記後端の反応性ガスポートを包囲する、混合真空ポートを備え、 前記混合真空ポートは、前記前端の反応性ガスポートと前記後端の反応性ガスポートからのガスが、前記境界から外に出て拡散することを妨げると同時に、前記境界の範囲内で混合することを可能とし、 回転する前記サセプタアセンブリ上の基板の移動方向に沿って、前記基板と最初に接する側を前端、その反対側を後端とし、 少なくとも1つの遠隔プラズマ源が前記前端の反応性ガスポート及び前記後端の反応性ガスポートのうちの1以上に連結されるように構成された 注入器ユニット。

IPC (3件)：

C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/68 N