特許
J-GLOBAL ID：202103009236952965
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-005747
公開番号（公開出願番号）：特開2019-123158
特許番号：特許第6971865号
出願日： 2018年01月17日
公開日（公表日）： 2019年07月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を支持する基板支持部材が設けられるステージと、
前記基板上に処理液を滴下する処理液供給部と、
前記ステージの基板支持面の中央部に設けられる供給口から冷却媒体を供給する冷却媒体供給部と、
前記ステージと前記基板支持部材とを前記基板支持面に垂直な方向に相対的に移動させる駆動部と、
を備え、
前記ステージは、前記供給口を中心とした第1部分と、前記第1部分の周囲に配置される第2部分と、を有し、
前記基板支持部材は、前記第2部分に配置され、
前記駆動部は、前記基板の前記ステージ側の形状に応じて、前記基板支持部材と前記第1部分とを、前記基板支持面に垂直な方向に相対的に移動させる処理装置。
IPC (3件)：
B29C 33/72 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
B29C 33/72
, H01L 21/304 643 Z
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/30 572 B
, H01L 21/30 502 D
