特許
J-GLOBAL ID:202103009553014725

腐食抑制剤としての水溶性ピラゾール誘導体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 青木 篤 ,  三橋 真二 ,  高橋 正俊 ,  胡田 尚則 ,  河原 肇 ,  明石 尚久
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-561692
特許番号:特許第6829212号
出願日: 2016年05月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 水性系と接触している金属表面の腐食を抑制するための方法であって、前記方法は、式(I)の化合物またはその塩を前記水性系に添加することを含み、 式中、Xが、-OH、-NH2、-SH、及びハロゲンからなる群から選択され、 Yが、-CR4であり、 R1及びR2が6員芳香族環を形成するか、またはR1及びR2が各々同じもしくは異なり、水素、アリール、ヘテロアリール、C1〜C16アルキル、C2〜C16アルケニル、C2〜C16アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ベンジル、アルキルヘテロアリール、ハロゲン、ハロ置換アルキル、アミノ、アミノアルキル、シアノ、ヒドロキシル、アルコキシ、チオール、アルキルチオ、カルボニル、ニトロ、ホスホリル、ホスホニル、及びスルホニルからなる群から選択され、 R3が、水素、アリール、ヘテロアリール、C1〜C16アルキル、C2〜C16アルケニル、C2〜C16アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ベンジル、アルキルヘテロアリール、ハロゲン、ハロ置換アルキル、アミノ、アミノアルキル、シアノ、ヒドロキシル、アルコキシ、チオール、アルキルチオ、カルボニル、ニトロ、ホスホリル、ホスホニル、及びスルホニルからなる群から選択され、 R4が、水素、アリール、ヘテロアリール、C1〜C16アルキル、C2〜C16アルケニル、C2〜C16アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ベンジル、アルキルヘテロアリール、ハロゲン、ハロ置換アルキル、アミノ、アミノアルキル、シアノ、ヒドロキシル、アルコキシ、チオール、アルキルチオ、カルボニル、ニトロ、ホスホリル、ホスホニル、及びスルホニルからなる群から選択され、 mが、1〜9の整数であり、 前記金属表面が、銅または銅合金を含む、方法。
IPC (4件):
C23F 11/14 ( 200 6.01) ,  C07D 231/12 ( 200 6.01) ,  C07D 231/16 ( 200 6.01) ,  C07D 231/56 ( 200 6.01)
FI (5件):
C23F 11/14 ,  C07D 231/12 D ,  C07D 231/12 Z ,  C07D 231/16 ,  C07D 231/56 Z
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特公昭49-021022
審査官引用 (1件)
  • 特公昭49-021022

前のページに戻る