特許

J-GLOBAL ID：202103009567233926

凹面回折格子の製造方法、凹面回折格子及びそれを用いた分析装置

発明者： 八重樫 健太 ,  江畠 佳定 ,  青野 宇紀
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテク
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018041261
公開番号（公開出願番号）：WO2019-130835
出願日： 2018年11月07日
公開日（公表日）： 2019年07月04日
要約：

回折格子の溝パターンの溝周期と凸面固定基板の位置とを容易に、高精度に合わせることを可能とする。このため、平面回折格子101に形成された、不等間隔の溝周期を有する溝パターン103を金属薄膜105に転写し、金属薄膜105を固定する凸面を有する固定基板108の凸面に第1の位置合わせマーク109を形成し、金属薄膜105の接着面に形成された第2の位置合わせマーク106を、第1の位置合わせマーク109に重ね合わせることにより、位置合わせを行い、金属薄膜の接着面と固定基板の凸面とを接着してマスター110を作製し、マスター110の金属薄膜の溝パターンを転写することにより、凹面回折格子115を作製する。

請求項（抜粋）：

平面回折格子に形成された、不等間隔の溝周期を有する溝パターンを金属薄膜に転写し、 前記金属薄膜を固定する凸面を有する固定基板の前記凸面に第1の位置合わせマークを形成し、 前記金属薄膜の接着面に形成された第2の位置合わせマークを、前記第1の位置合わせマークに重ね合わせることにより、位置合わせを行い、前記金属薄膜の接着面と前記固定基板の前記凸面とを接着してマスターを作製し、 前記マスターの前記金属薄膜の溝パターンを転写することにより、凹面回折格子を作製する凹面回折格子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/18 ,  G01J 3/18 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38

FI (4件)：

G02B5/18 ,  G01J3/18 ,  B29C59/02 B ,  B29C33/38

Fターム (31件)：

2G020CB24 ,  2G020CB43 ,  2G020CC05 ,  2G020CC12 ,  2G020CD03 ,  2H249AA08 ,  2H249AA14 ,  2H249AA18 ,  2H249AA39 ,  2H249AA46 ,  2H249AA58 ,  2H249AA61 ,  2H249AA68 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA19 ,  4F202CD02 ,  4F202CD04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ09 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PQ11