特許
J-GLOBAL ID:202103011034562043
半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人つばさ国際特許事務所
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2018046922
公開番号(公開出願番号):WO2019-138828
出願日: 2018年12月20日
公開日(公表日): 2019年07月18日
要約:
本開示の半導体装置は、半導体基板の第1のアクティブ領域において第1の方向に延伸し、第1のアクティブ領域を第1の領域および第2の領域に区分する第1の主線部と、第1の領域において第1の主線部から第1の方向と交差する第2の方向に延伸し、第1の領域を第1のサブ領域および第2のサブ領域を含む複数のサブ領域に区分する1または複数の第1の副線部とを有する第1のゲート電極と、第1の端子と、半導体基板の第1のサブ領域に接続された第2の端子とを有し、第1の抵抗状態または第2の抵抗状態をとりうる第1の記憶素子と、第1の端子と、半導体基板の第2のサブ領域に接続された第2の端子とを有し、第1の抵抗状態または第2の抵抗状態をとりうる第2の記憶素子とを備える。
請求項(抜粋):
半導体基板の第1のアクティブ領域において第1の方向に延伸し、前記第1のアクティブ領域を第1の領域および第2の領域に区分する第1の主線部と、前記第1の領域において前記第1の主線部から前記第1の方向と交差する第2の方向に延伸し、前記第1の領域を第1のサブ領域および第2のサブ領域を含む複数のサブ領域に区分する1または複数の第1の副線部とを有する第1のゲート電極と、
第1の端子と、前記半導体基板の前記第1のサブ領域に接続された第2の端子とを有し、第1の抵抗状態または第2の抵抗状態をとりうる第1の記憶素子と、
第1の端子と、前記半導体基板の前記第2のサブ領域に接続された第2の端子とを有し、前記第1の抵抗状態または前記第2の抵抗状態をとりうる第2の記憶素子と
を備えた半導体装置。
IPC (4件):
H01L 21/823
, H01L 27/105
, H01L 43/08
, G11C 11/16
FI (3件):
H01L27/105 447
, H01L43/08 Z
, G11C11/16 240
Fターム (23件):
4M119AA06
, 4M119AA15
, 4M119BB01
, 4M119CC05
, 4M119DD02
, 4M119DD17
, 4M119DD26
, 4M119DD32
, 4M119DD43
, 4M119DD48
, 4M119EE23
, 4M119EE28
, 4M119FF05
, 4M119FF06
, 4M119FF13
, 4M119GG01
, 4M119GG02
, 4M119HH01
, 4M119HH04
, 5F092AC12
, 5F092BB21
, 5F092BB29
, 5F092BB41
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