特許
J-GLOBAL ID：202103011176373116
アミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
栗原 浩之
, 山▲崎▼ 雄一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-517967
特許番号：特許第6857358号
出願日： 2016年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コロイダルシリカの表面に下記一般式(1):
R1aSi(OR2)3-aO- (1)
(式中、R1は炭素数1〜10の置換又は無置換のアルキル基又はフェニル基、R2は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシアルキル基であり、aは1乃至3である。R1が複数ある場合、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、複数のOR2は同一でも異なっていてもよい。)
で表される第1シリル基と下記一般式(2):
R3bSi(OR4)3-bO- (2)
(式中、R3は炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、又はアミノ基、アミノアルキル基及びアルキルアミノ基の中から選ばれる1以上の基で置換された炭素数1〜3のアルキル基であり、R3の少なくとも1つは、アミノ基、アミノアルキル基又はアルキルアミノ基のいずれかで置換された炭素数1〜3のアルキル基である。R4は炭素数1〜4のアルキル基であり、bは1又は2である。R3が複数ある場合、複数のR3は同一でも異なっていてもよく、複数のOR4は同一でも異なっていてもよい。)
で表される第2シリル基が結合しており、且つ20°Cにおける比誘電率が15以上60未満の極性溶媒S1と20°Cにおける比誘電率が1以上15未満の非極性溶媒S2との質量比(S1/S2)が0.3〜6である混合溶媒を分散媒とし、シリカ濃度が8質量%以上、50質量%以下である一般式(2)に含まれるアミノ基は酸根と塩を形成していないアミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液。
IPC (5件)：
C01B 33/145 ( 200 6.01)
, C01B 33/18 ( 200 6.01)
, C09C 1/28 ( 200 6.01)
, C09C 3/08 ( 200 6.01)
, C09D 17/00 ( 200 6.01)
C01B 33/145
, C01B 33/18 C
, C09C 1/28
, C09C 3/08
, C09D 17/00
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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