特許
J-GLOBAL ID：202103011353996986
基材処理装置および基材処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-061246
公開番号（公開出願番号）：特開2017-172917
特許番号：特許第6808338号
出願日： 2016年03月25日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 主面に塗布液が供給された基材を搬送経路に沿って搬送する搬送部と、
前記搬送部によって搬送される前記基材に対して加熱処理を含む処理を施すことで、前記主面に供給された前記塗布液を乾燥させる乾燥部と、
を備え、
前記搬送部は、
前記搬送経路に沿って前記乾燥部よりも上流側に設けられており且つ前記基材を搬送する第1搬送要素と、
前記搬送経路に沿って前記乾燥部よりも下流側に設けられており且つ気体層を介して前記基材を搬送する第2搬送要素と、
を有し、
前記搬送部による、前記乾燥部における前記基材の搬送方向と前記乾燥部よりも下流側における前記基材の搬送方向とが異なり、
前記第2搬送要素は、前記基材に対する抱き角を有しつつ前記基材を搬送し、
前記第2搬送要素は、前記主面に平行であり且つ前記基材の搬送方向に交差する交差方向に伸びる軸を中心として回転可能なローラを含み、
前記ローラの周速が前記搬送部によって搬送される前記基材の搬送速度よりも速くなるように、前記ローラを回転させる駆動部、
をさらに備える、基材処理装置。
IPC (10件)：
F26B 13/10 ( 200 6.01)
, F26B 13/20 ( 200 6.01)
, B65H 20/02 ( 200 6.01)
, B65H 23/10 ( 200 6.01)
, B05C 13/00 ( 200 6.01)
, B05C 9/14 ( 200 6.01)
, H01M 4/139 ( 201 0.01)
, B05D 3/00 ( 200 6.01)
, B05D 3/02 ( 200 6.01)
, F26B 3/04 ( 200 6.01)
F26B 13/10 H
, F26B 13/20
, B65H 20/02 Z
, B65H 23/10
, B05C 13/00
, B05C 9/14
, H01M 4/139
, B05D 3/00 B
, B05D 3/02 D
, F26B 3/04
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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