特許
J-GLOBAL ID：202103012369194517

清浄化用皮膜形成剤及びこれを用いた清浄化処理方法

発明者：
渡邊 洋介

渡邊 洋介 について

, 
猪俣 和也

猪俣 和也 について


出願人/特許権者：
ライオン株式会社

ライオン株式会社 について


代理人 (6件)： 田▲崎▼ 聡 ,  川越 雄一郎 ,  加藤 広之 ,  志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-130253
公開番号（公開出願番号）：特開2018-002841
特許番号：特許第6796412号
出願日： 2016年06月30日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)成分:酢酸ビニル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびポリビニルアセタール樹脂から選ばれる1種以上の高分子を15〜65質量%と、 (B)成分:水を25〜75質量%と、 (C)成分:溶解度パラメーター(SP値)が7.5〜11.0である有機溶剤を0.5〜10質量%と、 (D)成分:キレート剤と、 を含有し、 前記(C)成分/前記(D)成分(無水の酸型として)で表される質量比が0.5〜20である清浄化用皮膜形成剤。
IPC (4件)：
C11D 17/00 ( 200 6.01) ,  C11D 7/22 ( 200 6.01) ,  C11D 7/50 ( 200 6.01) ,  A47L 25/00 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C11D 17/00 ,  C11D 7/22 ,  C11D 7/50 ,  A47L 25/00 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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