特許
J-GLOBAL ID：202103013388016529
隠蔽膜を形成するための組成物並びにそれを製造及び使用する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小野 新次郎
, 山本 修
, 宮前 徹
, 中西 基晴
, 野矢 宏彰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-118213
公開番号（公開出願番号）：特開2018-172406
特許番号：特許第6974262号
出願日： 2018年06月21日
公開日（公表日）： 2018年11月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被覆組成物の製造方法であって、
(a)アモルファス粒子状金属酸化物材料、ここでアモルファス粒子状金属酸化物材料は、(i)1.2〜1.8の範囲の屈折率を有し、かつ(ii)アルミナ、窒化ホウ素またはシリカよりなる粒子を含む、ならびに
(b)非揮発性成分及び揮発性成分を含む流体相
を含む分散液を与えること
ここで、非揮発性成分が1.2〜1.8の範囲の屈折率を有し、アモルファス粒子状金属酸化物材料と非揮発性成分との屈折率の差が0.6単位以下の絶対値である;
分散液を支持体に適用すること;
分散液を乾燥して揮発成分の少なくとも一部を蒸発させて、被覆組成物を形成すること;
を含み、
該被覆組成物が、連続的な透明膜を含み、該透明膜は
(a)透明膜による全光散乱量を基準として約50%未満の膜内光散乱及び約50%を越える表面光散乱を示し、そして
(b)少なくとも4.0の光学性能比を有する、ここで該光学性能比は(i)被覆組成物の拡散透過率を(ii)被覆組成物の全反射率で割った比を示す、
上記方法。
IPC (4件)：
A61K 8/25 ( 200 6.01)
, A61K 8/26 ( 200 6.01)
, A61K 8/19 ( 200 6.01)
, A61Q 1/00 ( 200 6.01)
A61K 8/25
, A61K 8/26
, A61K 8/19
, A61Q 1/00
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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