レジスト組成物及びレジストパターン製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-155638
公開番号（公開出願番号）：特開2017-045047
特許番号：特許第6795928号
出願日： 2016年08月08日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)、式(II)で表される構造単位を含み、酸不安定基を有する構造単位を含まない樹脂(A2)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、 R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 A1は、単結合、*-A2-O-、*-A2-CO-O-、*-A2-CO-O-A3-CO-O-又は*-A2-O-CO-A3-O-を表す。 *は-O-との結合手を表す。 A2及びA3は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。] [式(II)中、 Rt1は、水素原子又はメチル基を表す。 At1は、炭素数1〜6のアルカントリイル基を表す。 Xt1及びXt1’は、互いに独立に、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。 Rt2及びRt2’は、互いに独立に、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基又は、式(t)で表される基を表す。]

IPC (5件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) , G03F 7/004 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , C08F 20/22 ( 200 6.01) , C08F 20/28 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/20 521 , C08F 20/22 , C08F 20/28

引用特許：

出願人引用 (2件)

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-100960 出願人：住友化学株式会社
多重パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-165662 出願人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズエルエルシー, ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー, ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド

審査官引用 (2件)

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-100960 出願人：住友化学株式会社
多重パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-165662 出願人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズエルエルシー, ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー, ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド

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