特許

J-GLOBAL ID：202103013917821467

酸化ガリウムの製造方法

発明者： 林 大和 ,  高野 裕希 ,  滝澤 博胤 ,  小林 稔季
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学
代理人 (2件)： 須田 篤 ,  楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-194105
公開番号（公開出願番号）：特開2021-066636
出願日： 2019年10月25日
公開日（公表日）： 2021年04月30日
要約：

【課題】低温かつ比較的簡単な工程でγ-Ga2O3を製造することができ、製造コストを低減することができる酸化ガリウムの製造方法を提供する。【解決手段】液体のガリウムと還元剤とを含む原料溶液に対して超音波を照射することにより、少なくとも表面にγ-酸化ガリウム(γ-Ga2O3)の結晶を有する粒子を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体のガリウムと還元剤とを含む原料溶液に対して超音波を照射することにより、少なくとも表面にγ-酸化ガリウム(γ-Ga2O3)の結晶を有する粒子を形成することを特徴とする酸化ガリウムの製造方法。

IPC (2件)：

C01G 15/00 ,  B82Y 40/00

FI (3件)：

C01G15/00 H ,  C01G15/00 D ,  B82Y40/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 有機溶媒ソノケミストリーによるナノ粒子合成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-256632   出願人：国立大学法人東北大学