特許

J-GLOBAL ID：202103014662348939

反応装置および温度制御方法

発明者： 宇佐美 由久 ,  石井 靖幸 ,  井上 雄喜 ,  大内 彩
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018047104
公開番号（公開出願番号）：WO2019-187415
出願日： 2018年12月20日
公開日（公表日）： 2019年10月03日
要約：

高速な昇温および降温を実現可能な反応装置および温度制御方法を提供する。 反応装置は、1μL以上の検体液を収容するセルと、セルを内包する、冷却板からなる冷却板構造体と、冷却板構造体を冷却する冷却部と、セルおよび検体液の少なくとも一方に電磁波を照射する加熱部とを備え、冷却板構造体を構成する冷却板が少なくともセルの主要な2面と接触しており、冷却板構造体が、電磁波を透過する透明窓を有する。

請求項（抜粋）：

1μL以上の検体液を収容するセルと、 該セルを内包する、冷却板からなる冷却板構造体と、 該冷却板構造体を冷却する冷却部と、 前記セルおよび前記検体液の少なくとも一方に電磁波を照射する加熱部と、 を備え、 前記冷却板構造体を構成する冷却板が少なくとも前記セルの主要な2面と接触しており、 前記冷却板構造体が、前記電磁波を透過する透明窓を有する反応装置。

IPC (3件)：

C12M 1/00 ,  C12M 1/38 ,  C12Q 1/686

FI (3件)：

C12M1/00 A ,  C12M1/38 Z ,  C12Q1/686 Z

Fターム (9件)：

4B029AA07 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4B029FA15 ,  4B063QA01 ,  4B063QR08 ,  4B063QR55 ,  4B063QR62 ,  4B063QS25