特許
J-GLOBAL ID:202103015842402350

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 鎌田 健司 ,  野村 幸一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-129564
公開番号(公開出願番号):特開2018-006103
特許番号:特許第6807523号
出願日: 2016年06月30日
公開日(公表日): 2018年01月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 高周波電力を発生させる高周波電力発生部と、 被加熱物を挟み込むように対向した位置に設置され、前記高周波電力を表面波で伝播して前記被加熱物を加熱する複数の表面波励振体と、 前記高周波電力を前記表面波励振体に供給する高周波電力供給部と、 前記被加熱物を設置する設置台と、を備え、 対向するそれぞれの表面波励振体の励振周波数が異なり、 前記高周波電力の周波数と、前記それぞれの表面波励振体の励振周波数との大小関係を変えることにより、前記それぞれの表面波励振体の表面を伝播する高周波電力の電界強度分布を変える、 高周波加熱装置。
IPC (2件):
H05B 6/74 ( 200 6.01) ,  H05B 6/68 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05B 6/74 B ,  H05B 6/68 320 A ,  H05B 6/68 370
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 高周波加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-043554   出願人:松下電器産業株式会社
  • マイクロ波加熱方法およびその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-316094   出願人:日本電気株式会社
  • マイクロ波処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-252361   出願人:パナソニック株式会社
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審査官引用 (5件)
  • 高周波加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-043554   出願人:松下電器産業株式会社
  • マイクロ波加熱方法およびその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-316094   出願人:日本電気株式会社
  • マイクロ波処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-252361   出願人:パナソニック株式会社
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