特許

J-GLOBAL ID：202103016044655289

チタンめっき部材の製造方法及びチタンめっき部材

発明者： 沼田 昂真 ,  真嶋 正利 ,  粟津 知之 ,  野平 俊之 ,  安田 幸司 ,  法川 勇太郎
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社 ,  国立大学法人京都大学
代理人 (1件)： 特許業務法人深見特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019000170
公開番号（公開出願番号）：WO2019-171744
出願日： 2019年01月08日
公開日（公表日）： 2019年09月12日
要約：

導電性の表面を有する基材と上記基材に対応するアノードとを、溶融塩チタンめっき液組成物に浸漬する工程と、上記基材の上記導電性の表面上にチタンめっき膜を形成する工程と、を含むチタンめっき部材の製造方法であって、上記チタンめっき膜を形成する工程は、上記基材におけるカソード電位がLi+/Liの酸化還元電位を基準として0.85V〜1.2Vとなるように、上記基材と上記アノードとの間に電圧を印加することを含み、上記溶融塩チタンめっき液組成物は、フッ化リチウム、塩化リチウム及びチタン(III)イオンを含む、製造方法。

請求項（抜粋）：

導電性の表面を有する基材と前記基材に対応するアノードとを、溶融塩チタンめっき液組成物に浸漬する工程と、 前記基材の前記導電性の表面上にチタンめっき膜を形成する工程と、を含むチタンめっき部材の製造方法であって、 前記チタンめっき膜を形成する工程は、前記基材におけるカソード電位がLi+/Liの酸化還元電位を基準として0.85V〜1.2Vとなるように、前記基材と前記アノードとの間に電圧を印加することを含み、 前記溶融塩チタンめっき液組成物は、フッ化リチウム、塩化リチウム及びチタン(III)イオンを含む、製造方法。

IPC (2件)：

C25D 3/66 ,  C25C 3/28

FI (2件)：

C25D3/66 ,  C25C3/28

Fターム (10件)：

4K058AA04 ,  4K058BA10 ,  4K058BB05 ,  4K058CB06 ,  4K058CB08 ,  4K058CB13 ,  4K058CB17 ,  4K058CB22 ,  4K058EB13 ,  4K058EC04