特許
J-GLOBAL ID:202103016267155148
テクスチャ生成装置、テクスチャ生成方法、およびプログラム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
中尾 直樹
, 中村 幸雄
, 義村 宗洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2021-067055
公開番号(公開出願番号):特開2021-106049
出願日: 2021年04月12日
公開日(公表日): 2021年07月26日
要約:
【課題】参照オブジェクトのテクスチャ表面と触覚的に等価なテクスチャ表面を生成する。【解決手段】表面に凹凸の二次元分布を有する対象物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する原画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムを、表面に凹凸の二次元分布を有する参照物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する参照画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムと同一にする変換を原画像に対して行うことにより、変調物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する変調画像を生成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面に凹凸の二次元分布を有する対象物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する原画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムを、表面に凹凸の二次元分布を有する参照物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する参照画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムと同一にする変換を前記原画像に対して行うことにより、物体表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する変調画像を生成し、
前記変調画像の各画素値を各位置の深さとした凹凸の二次元分布を表面に有する変調物体を生成する、テクスチャ生成装置。
IPC (3件):
G06T 11/00
, G06T 5/40
, G06F 30/10
FI (3件):
G06T11/00 110
, G06T5/40
, G06F30/10 100
Fターム (19件):
5B057AA20
, 5B057CA08
, 5B057CA13
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB13
, 5B057CB16
, 5B057CG05
, 5B057CH20
, 5B057DA20
, 5B057DB03
, 5B057DB09
, 5B057DC23
, 5B080CA00
, 5B080FA02
, 5B080GA22
, 5B080GA23
, 5B146AA08
, 5B146AA12
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