特許

J-GLOBAL ID：202103016640050831

成形物の製造方法、インプリント-電子描画の一括成形用レジスト、レプリカモールドの製造方法、デバイスの製造方法、及びインプリント材料

発明者： 谷口 淳 ,  岡部 貴雄 ,  大幸 武司 ,  宮澤 貴士
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学 ,  東洋合成工業株式会社
代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019029547
公開番号（公開出願番号）：WO2020-022514
出願日： 2019年07月26日
公開日（公表日）： 2020年01月30日
要約：

成形物の製造方法であり、凹部及び凸部の少なくとも一方を表面に有するモールドを、光硬化可能なポジ型電子線レジストに押し付ける工程と、押し付けられた前記光硬化可能なポジ型電子線レジストに光を照射して硬化し、表面に凹部及び凸部を有するポジ型電子線レジスト成形物を得る工程と、前記ポジ型電子線レジスト成形物の表面に電子線を照射して、前記照射した領域における前記ポジ型電子線レジスト成形物を部分的に分解する工程と、を有する。

請求項（抜粋）：

凹部及び凸部の少なくとも一方を表面に有するモールドを、光硬化可能なポジ型電子線レジストに押し付ける工程と、 押し付けられた前記光硬化可能なポジ型電子線レジストに光を照射して硬化し、表面に凹部及び凸部を有するポジ型電子線レジスト成形物を得る工程と、 前記ポジ型電子線レジスト成形物の表面に電子線を照射して、前記照射した領域における前記ポジ型電子線レジスト成形物を部分的に分解する工程と、 を有する、成形物の製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/30 541P ,  B29C59/02 Z

Fターム (10件)：

4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  5F056DA11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA33