反射型マスクブランク、反射型マスク及び反射型マスクブランクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：伊東忠重 , 伊東忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-112600
公開番号（公開出願番号）：特開2019-056898
特許番号：特許第6965833号
出願日： 2018年06月13日
公開日（公表日）： 2019年04月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に、EUV光を反射する反射層と、EUV光を吸収する吸収層とを基板側からこの順に有する反射型マスクブランクであって、前記吸収層は、Snを主成分として含有し、かつTaを25at%以上含有する反射型マスクブランク。

IPC (6件)：

G03F 1/24 ( 201 2.01) , G03F 1/48 ( 201 2.01) , G03F 1/50 ( 201 2.01) , G03F 1/54 ( 201 2.01) , G03F 1/60 ( 201 2.01) , G03F 1/82 ( 201 2.01)

FI (6件)：

G03F 1/24 , G03F 1/48 , G03F 1/50 , G03F 1/54 , G03F 1/60 , G03F 1/82

前のページに戻る