特許
J-GLOBAL ID:202103017718125600
精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-120023
公開番号(公開出願番号):特開2017-223417
特許番号:特許第6800622号
出願日: 2016年06月16日
公開日(公表日): 2017年12月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去する第1吸着工程と、
前記第1吸着工程後の原料ガス中の少なくともメタンおよび亜酸化窒素を触媒反応に供し、精製ガスを得る触媒反応工程と、を備えた精製ガスの製造方法であって、
前記触媒反応工程における触媒反応の温度が250°C未満である精製ガスの製造方法。
IPC (6件):
F25J 3/04 ( 200 6.01)
, F25J 3/08 ( 200 6.01)
, B01D 53/047 ( 200 6.01)
, C01B 21/04 ( 200 6.01)
, B01J 23/44 ( 200 6.01)
, B01J 23/42 ( 200 6.01)
FI (7件):
F25J 3/04 103
, F25J 3/08 ZAB
, B01D 53/047
, C01B 21/04 Z
, C01B 21/04 B
, B01J 23/44 M
, B01J 23/42 M
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
半導体製造工場向け各種ガスの製造方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-096200
出願人:日本酸素株式会社, 富士通株式会社
-
空気分離装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-206851
出願人:エア・ウォーター株式会社
-
分離精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-052889
出願人:大陽日酸株式会社
全件表示
前のページに戻る