特許
J-GLOBAL ID：202103018015855131
フォトンシーブホログラム及び微細光学像投影装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
木村 満
, 武山 敦史
, 森川 泰司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-183428
公開番号（公開出願番号）：特開2021-060474
出願日： 2019年10月04日
公開日（公表日）： 2021年04月15日
要約：
【課題】対象物に対して正確な微細光学像を容易に投影できるフォトンシーブホログラム及び微細光学像投影装置を提供する。【解決手段】フォトンシーブホログラム10は、フォトンシーブを同一平面上に少なくとも二つ以上組み合わせたパターンで複数の凹部、凸部又は貫通孔が配置された微細構造体を備える。微細構造体は、電磁波を遮断する遮光膜11と、遮光膜11に形成され、電磁波を通過させることが可能な複数のピンホール11aと、を備えてもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
フォトンシーブを同一平面上に少なくとも二つ以上組み合わせたパターンで複数の凹部、凸部又は貫通孔が配置された微細構造体を備えるフォトンシーブホログラム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 501
, G03F7/20 521
, G03H1/20
2H197AA50
, 2H197BA11
, 2H197CA07
, 2H197JA05
, 2K008AA00
, 2K008EE01
, 2K008EE04
, 2K008HH01
