特許

J-GLOBAL ID：202103018111972017

複合体の製造方法

発明者： 藤井 達也 ,  川▲崎▼ 慎一朗 ,  中村 考志
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-071900
公開番号（公開出願番号）：特開2021-167265
出願日： 2020年04月13日
公開日（公表日）： 2021年10月21日
要約：

【課題】金属酸化物と、この金属酸化物の表面を修飾するカルボン酸誘導体とを備える複合体が、短い処理時間で得られる方法を提供する【解決手段】複合体の製造方法は、HfとZrの少なくとも一方の酸化物と、酸化物の表面を修飾するカルボン酸誘導体とを備え、一次粒子径が4nm以下である複合体を製造する方法であって、密閉容器内で、酸化物の前駆体である有機金属塩と、カルボン酸と、アルコールとを、300°C以上かつアルコールの臨界温度未満の温度条件下で処理する処理工程を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

HfとZrの少なくとも一方の酸化物と、前記酸化物の表面を修飾するカルボン酸誘導体とを備え、一次粒子径が4nm以下である複合体を製造する複合体の製造方法であって、 密閉容器内で、前記酸化物の前駆体である有機金属塩と、前記カルボン酸と、アルコールとを、300°C以上かつ前記アルコールの臨界温度未満の温度条件下で処理する処理工程を有する複合体の製造方法。

IPC (5件)：

C01G 27/02 ,  C01G 25/02 ,  C07C 63/06 ,  C07C 53/126 ,  C07F 7/00

FI (6件)：

C01G27/02 ,  C01G25/02 ,  C07C63/06 ,  C07C53/126 ,  C07F7/00 A ,  C07F7/00 Z

Fターム (18件)：

4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS10 ,  4H006BS30 ,  4H049VN06 ,  4H049VN07 ,  4H049VQ25 ,  4H049VU29 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02