特許
J-GLOBAL ID:202103019737318960

触媒反応装置及び触媒反応方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 棚井 澄雄 ,  寺本 光生 ,  勝俣 智夫 ,  山口 洋
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-162985
公開番号(公開出願番号):特開2017-042757
特許番号:特許第6789462号
出願日: 2016年08月23日
公開日(公表日): 2017年03月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 反応容器と、 前記反応容器内に収容され、前記反応容器の内壁面に接触する触媒層と、 前記反応容器内で前記触媒層を保持するとともに、通気性を有する触媒保持器と、 前記触媒層の上側及び下側のいずれかに設けられ、前記反応容器内に原料ガスを流入させる流入路と、 前記触媒層の上側及び下側のうち、前記流入路が設けられる側の反対側に設けられ、前記原料ガスと前記触媒層との反応によって生成した改質ガスを前記反応容器から流出させる流出路と、 前記反応容器の内壁面に設けられ、前記反応容器内の空間を仕切る弁座と、 前記弁座を上下に貫通する通気孔と、 前記通気孔を閉塞可能な弁体と、 前記反応容器内に設けられ、前記弁体と、前記触媒保持器とを連結する心棒と、 前記心棒を、前記弁体が前記通気孔を閉塞する閉塞位置と、前記弁体が前記通気孔を開放する開放位置との間で昇降させることが可能な駆動装置と、を備えることを特徴とする、触媒反応装置。
IPC (3件):
B01J 8/02 ( 200 6.01) ,  C10K 3/02 ( 200 6.01) ,  B01J 23/755 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01J 8/02 E ,  C10K 3/02 ,  B01J 23/755 M
引用特許:
出願人引用 (14件)
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