特許

J-GLOBAL ID：202103019905317133

リソグラフィアプリケーション内でオブジェクトを保持するための改変された表面トポグラフィを伴うバール

発明者： アクバス,メフメト,アリ ,  ピーターソン,デイビッド,ハート ,  ウィッターダイク,タモ ,  ペリー,マイケル ,  ルイス,リチャード,ブライアン ,  シガル,イリヤ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ.
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-519350
公開番号（公開出願番号）：特表2021-500596
出願日： 2018年10月04日
公開日（公表日）： 2021年01月07日
要約：

リソグラフィ装置内でオブジェクトを保持するための様々なバール設計が記載される。リソグラフィ装置は、照明システム、第1の支持構造、第2の支持構造、及び投影システムを含む。照明システムは放射を受け取り、パターン付き放射を形成するパターニングデバイスに向けて、放射を誘導するように設計される。第1の構造は、パターニングデバイスを第1の支持構造上で支持するように設計される。第2の支持構造(402)は複数のバール(406)を有し、複数のバール上で基板(408)を支持するように設計される。複数のバールの各々の頂部表面のトポグラフィは実質的に平坦ではないため、基板と複数のバールの各々との間の接触面積は減少することになる。投影システムは、パターン付き放射を受け取り、パターン付き放射を基板に向けて誘導するように設計される。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、 放射を受け取り、パターン付き放射を形成するように構成されたパターニングデバイスに向けて、前記放射を誘導するように構成された、照明システムと、 前記パターニングデバイスを第1の支持構造上で支持するように構成された、第1の支持構造と、 複数のバールを有し、前記複数のバール上で基板を支持するように構成された、第2の支持構造であって、前記複数のバールの各々の頂部表面のトポグラフィは、前記基板と前記複数のバールの各々との間の接触面積を少なくとも50%減少させるものである、第2の支持構造と、 前記パターン付き放射を受け取り、前記パターン付き放射を前記基板に向けて誘導するように構成された、投影システムと、 を備える、リソグラフィ装置。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (2件)：

G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521

Fターム (19件)：

2H197AA05 ,  2H197BA11 ,  2H197CA01 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA10 ,  2H197CB16 ,  2H197CC16 ,  2H197CD02 ,  2H197CD03 ,  2H197CD05 ,  2H197CD06 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10

引用特許：

審査官引用 (7件)

• リトグラフ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-247641   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 吸着部材、吸着装置および吸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-115151   出願人：京セラ株式会社
• 基板の吸着保持装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-111166   出願人：キヤノン株式会社
• 高温真空チャックアセンブリ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-542317   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 試料保持具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-012259   出願人：京セラ株式会社
• 吸着固定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-166708   出願人：住友大阪セメント株式会社
• 板状体の保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-271152   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社