特許
J-GLOBAL ID：202103021122795967
光活性層及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-189642
公開番号（公開出願番号）：特開2021-064739
出願日： 2019年10月16日
公開日（公表日）： 2021年04月22日
要約：
【課題】 複数のバンドギャップを有し、且つ、低コストで容易に製造可能であり、大きな光電流密度を示す光活性層及び光活性層の製造方法を提供する。【解決手段】光照射しながら、電位制御によって同一の水溶液から製造された、CuO層とCu2O層が積層した構造を有する光活性層及びその製造方法が提供される。本発明の光活性層は、太陽電池あるいは太陽光を活用した光電気化学反応による水素製造に用いる光カソードとしても機能する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
CuO層とCu2O層が積層した構造を有する光活性層。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L31/06 400
, H01L31/04 420
5F151AA07
, 5F151CB11
, 5F151DA03
, 5F151DA07
, 5F151FA02
, 5F151GA03
