特許
J-GLOBAL ID:202103021185080402

レーザ溶接方法、レーザ溶接条件決定方法、およびレーザ溶接システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 鎌田 健司 ,  野村 幸一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-521674
特許番号:特許第6967700号
出願日: 2016年05月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】溶接方向に移動する回転中心を周回する螺旋形状を有する軌跡に沿って溶接対象物に対して相対的に移動するビームスポットを形成するようにレーザ光を前記溶接対象物に照射するステップと、 前記照射されたレーザ光により前記溶接対象物を溶接するステップと、 を含み、前記レーザ光を前記溶接対象物に照射するステップは、前記溶接方向における前記螺旋形状を有する前記軌跡の重なり度合を示す値である間隔係数に基づいて前記レーザ光を前記溶接対象物に照射するステップを含み、 前記間隔係数は、前記ビームスポットが前記溶接方向の反対の方向の成分を有する移動速度で前記回転中心を周回する前記溶接方向における第2の幅に対する、前記ビームスポットが前記溶接方向の成分を有する移動速度で前記回転中心を周回する前記溶接方向における第1の幅の比であり、前記間隔係数は2〜2.5の範囲である、レーザ溶接方法。
IPC (4件):
B23K 26/21 ( 201 4.01) ,  B23K 26/082 ( 201 4.01) ,  B23K 26/08 ( 201 4.01) ,  B23K 26/00 ( 201 4.01)
FI (4件):
B23K 26/21 G ,  B23K 26/082 ,  B23K 26/08 Z ,  B23K 26/00 N
引用特許:
審査官引用 (1件)

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