研課題
J-GLOBAL ID:202104000045448007  研究課題コード:7700006379

液晶アクティブマスクを用いたフォトリソグラフィ装置の開発

実施期間:2005 - 2005
実施機関 (1件):
研究代表者: ( )
研究概要:
半導体技術を応用したマイクロ・ナノマシニングで作製されるマイクロマシンやマイクロ化学分析システムにおいて、最もキーとなるは製品のデザインを決定するフォトマスクにあるといえる。しかしながら、従来のフォトマスクの利用は、そのコストのみならず、マスク作製に多大な時間を要するという問題がある。このため、研究開発における頻繁な設計変更や対象とするアプリケーションに適した多種多様のデバイスデザインに対応するためには、マスク作製プロセスの高スループット・低価格化が重要な課題となる。そこで本研究では、液晶素子をフォトマスクの代替品として利用したリソグラフィ装置を開発し、上記の問題を解決する。
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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