微細三次元形状測定用高アスペクト比極小径ファイバスタイラスの製造および校正技術の開発

実施期間：2012 - 2013
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 国際環境工学部機械システム工学部, 准教授 )
研究概要：

本研究では、直径1μmの極小径の光ファイバの接触式スタイラスを用いることにより、低測定力・検出機構が簡便で5μm以下の溝や穴を有する微細形状を測定可能な装置の開発を目的とし、小径で高アスペクト比の接触式スタイラスの製造およびその先端部形状の校正技術の開発を行った。その結果、フッ化水素酸を用いたウェットエッチングにより直径1 μm以下(約0.4 μm)、長さ約1.5 mmのスタイラスシャフトを製作可能であることを確認した。また、スタイラス接触子の直径は、幅1mmのブロックゲージ幅の測定値とブロックゲージの幅との差より算出することで接触子径を測定できることを確認した。また、AFM(原子間力顕微鏡)を用いることで、接触子形状を測定可能であることを確認した。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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