研課題
J-GLOBAL ID:202104002161084228  研究課題コード:7700400076

高度電子機器用回路のためのセラミックス膜形成方法の開発

実施期間:2002 - 2003
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 応用セラミックス研究所, 教授 )
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した研究課題タイトルの用語をもとにしたキーワードです
研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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