リング状ホロー放電のマルチ化による高精度プラズマプロセス装置の開発

実施期間：2011 - 2011
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 大学院工学系研究科, 准教授 )
研究概要：

半導体素子の微細加工技術や太陽電池パネルの薄膜合成技術において、その生産性を向上させるためには、高精度なプラズマプロセス装置の開発が必要不可欠である。本研究では、従来のプラズマプロセス装置の課題である「低密度・不均一分布」を解決するために、リング状ホロー放電をマルチ化することにより、プラズマプロセス装置の高精度化(プラズマの高密度化・一様性)を検討した。粒子法による数値シミュレーションにより、リング状溝の本数を増加させることにより、プラズマの高密度化と一様性を実現できることを明らかにした。今後の展開として、設計したリング状ホロー電極を用いて、実証実験と改善を行い、実用化を進める予定である。

, , , ,

研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る