真空紫外CVD法を用いた撮像素子用マイクロレンズ作製技術の開発

実施期間：2006 - 2006
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 助手 )
研究概要：

CMOS 型及びCCD 型撮像素子は、今日家電製品から最先端科学技術分野で用いられており、高性能化が期待されている。中でもCMOS 型撮像素子は、従来のCCD 型のものよりもダイナミックレンジが広く、これからの撮像素子として高性能化を目指した技術開発が精力的に進められている。CMOS 型撮像素子表面には、開口率を上げるためマイクロレンズを取り付ける必要があるが、樹脂を塗布した後、加熱してド-ム型に膨らませて製作する従来方法では、素子への熱ダメージが問題となる。代表研究者は、平成17年度に採択された“JST

, , , ,

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る