シリコン基板へのミクロンサイズ貫通孔の形成

実施期間：2005 - 2005
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 太陽エネルギー化学研究センター )
研究概要：

代表研究者らが発見した銀粒子を触媒とする溶液処理によるシリコンへのナノサイズ径の深孔形成現象を利用して、10-50ミクロン程度の貫通孔の形成技術の開発を目指す。基礎研究で得られた発見を実用技術に展開しようとするもので、シリコンへの細孔形成において量産性に優れた溶液法による技術はこれまでに無い。本研究においては、携帯電話などの機器を小型化に期待されている半導体素子の3次元実装技術への応用できる貫通孔の形成を目指すものである。シリコンに形成された細孔はさらに広範な応用が期待でき、研究を進める中で新たな応用の可能性を探求する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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