研課題
J-GLOBAL ID:202104002996827400  研究課題コード:7700000014

吉田ナノ機構プロジェクト

体系的課題番号:JPMJER8502
実施期間:1985 - 1990
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 取締役 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJER8502
研究概要:
先端技術の急速な発展に伴い微細化・精密化技術はナノメータ(10-9m)領域へ入り込んできました。このプロジェクトでは、ナノメータで物を計測、制御、加工する手法を探索し、それを可能とする機械・機構の要素技術について研究を行いました。研究により、1ナノメータでの位置決めを可能とする超精密位置制御システムを実現し、半導体技術や精密加工技術などの広い分野での応用が期待されています。また、二波長レーザー測長装置により空気のゆらぎの影響を除去しナノメータオーダの測長を可能としました。さらに、加工表面や生物試料を観察するためのSEM-STM複合装置の作製、粒子ビームによる超平滑面の加工手法の開発、高反射率X線光学多層膜の作製などの基盤技術を確立し、ナノテクノロジーともいうべき新しい分野を切り拓くことに大きく貢献しました。
タイトルに関連する用語 (1件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構
報告書等:

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