コヒーレントEUV光を用いた極微パタン構造計測技術の開発

体系的課題番号：JPMJCR0842
実施期間：2008 - 2013
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 高度産業科学技術研究所, 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJCR0842
研究概要：

X線回折顕微法をEUV領域に展開し、より高精度な露光パタンの寸法計測ならびに欠陥観察が可能な計測技術の確立を図ります。スタンドアロン型の極短パルスレーザの高次高調波レーザからのコヒーレントEUV光源とEUVスキャトロメトリー顕微鏡との融合により、サブナノ精度のパタン寸法計測および露光用マスク欠陥観察技術を構築します。

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研究制度：＞＞
上位研究課題：次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

報告書等：

2013 事後評価書 , 終了報告書

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