新規湿式スプレー転写法による大面積・低抵抗CNT透明導電膜の技術開発

体系的課題番号：JPMJTM20BA
実施期間：2020 - 2021
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 理学部, 講師 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTM20BA
研究概要：

申請書が確立した「濾過転写法」は高溶媒・高基板選択性を有し、積層デバイス上へのCNT薄膜の作製が可能な独創性の高い湿式CNT薄膜作製手法である。しかし、大面積化が困難並びにデバイス展開に十分な抵抗値・透過率を示さず応用が限られる課題がある。そこで新規「スプレー転写法」の技術を確立し、膜面積100cm2、抵抗値50Ω·sq.-1、透過率80%のCNT薄膜の完成を目指し、電子デバイスに適用可能なコア技術へと発展させる。CNTの安定分散条件を明らかするとともに、界面活性剤による「分散」と「薄膜抵抗上昇」というトレードオフの関係を表面改質技術と界面接合技術により解決する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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