パイ共役拡張スタ-バ-スト型二光子吸収材料の開発

実施期間：2008 - 2008
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 創造科学技術大学院, 教授 )
研究概要：

高密度光記録媒体、三次元光造形、三次元蛍光イメージング等への応用が可能な、大きな二光子吸収断面積を有する新規1,2,4,5-テトラキス[4-(p-N-置換-N-オクチルアミノスチリル)フェニルエチニル]-3,6-二置換ベンゼンを合成する技術である。二光子吸収断面積2,500GM 以上を目指す。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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