超低消費電力ULSI実現に向けた超低誘電率層間絶縁膜開発のためのコンビナトリアル作製法の開発

実施期間：2010 - 2010
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , システム情報科学研究科(研究院, 准教授 )
研究概要：

本研究では、ULSIの層間絶縁膜の実現に必要な課題の一つである、最適なポーラス構造を広範にかつ迅速に探索する手法の確立の実現のため、ポーラスナノ粒子膜のコンビナトリアル作製法を開発することを目的としている。今回は、コンビナトリアル作製法の第一段階として、ナノ粒子生成プラズマと窒素ラジカル生成プラズマを用いて、ナノ粒子の窒化度を空間的に制御するコンビナトリアルナノ粒子窒化を実現した。今後、これらの方法をポーラスナノ粒子膜作製に適用して、超低誘電率層間絶縁膜を実現する。

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研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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