研課題
J-GLOBAL ID:202104003914907962  研究課題コード:11101249

大気圧ライン状噴霧CMD法による透明導電膜の大面積製膜技術

実施期間:2011 - 2011
実施機関 (1件):
研究責任者: ( , 理工学研究科, 教授 )
研究概要:
研究開発目標である透明導電膜の基盤材料としてAl添加ZnOおよび導電性高分子PEDOT:PSSを選択し、霧化塗布法で塗布試験を行った。またそれらの膜を用いて結晶Si系太陽電池の試作を行った。この際ス塩終端結晶Si表面は疎水性であるため、従来のスピンコート等の塗布技術では均一塗布膜が得られない。この問題を克服するため静電塗布法または霧化塗布法にメッシュバイアスを印加することで均一形成を可能とした。その結果結晶SiとPEDOT:PSS(無機・有機ハイブリッド)太陽電池素子で変換効率11.3%および霧化塗布法で8.3%を実現した。特に平坦化基板上のみならずテクスチャー基板上の均一形成も可能であることから当該技術は関連分野のみならず有機EL等への展開が期待される。これらの成果に関する論文発表および特許申請をおこなった。今後はより一層の大面積化への対応を目指し、キャリアガスの流れの制御、大面積対応前駆体供給法の開発、走査基板上の塗布に関する検討を推進する。
タイトルに関連する用語 (6件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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