ZnO量子ドット薄膜を安価でかつ大量に作製する新規プロセスの開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 教授 )
研究概要：

本研究は、ZnOの気相薄膜堆積プロセスにおいて、基材となる有機物の特異吸着により形成される多数のZnOナノクリスタルを量子ドットとする、簡便な量子ドット作成手法の確立に関するものである。得られたZnO量子ドット薄膜を発光層とする紫外線LEDを作製する。正孔注入のp型ZnO,電子注入のn型ZnOを100°C以下でプラスチックス基板上に堆積させることにより、フレキシブルな大面積LEDディスプレイを作製する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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