トップダウンプロセスの微細化に資するナノパターニングシステムの開発

実施期間：2009 - 2009
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 助教 )
研究概要：

近年、半導体基板は極微細な周期での表面加工が求められており、ナノ精度で被膜できるマスク材の開発が必要とされている。本課題では高分子薄膜のマスク材としての応用を考え、10ナノメートル以下の微細な超分子構造を形成するペプチドを構成要素とするジブロック共重合体を設計し、これらの固体表面への吸着とペプチド部位のβ-シート化に基づく簡便で低コスト化が可能な自己組織化によるナノ微細構造の調製法を検討する。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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