デジタルファブリケーションに対応する安価・ウェットプロセスによるガラス並みのバリア構造の開発

体系的課題番号：JPMJTR21T8
実施期間：2021 - 2021
実施機関 (1件)：
研究責任者： ( , 米沢キャンパス有機エレクトロニクスイノベーションセンター, 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTR21T8
研究概要：

コロナ社会により開発のリモートワーク化・製造のDX化が求められる中、デジタルファブリケーション(DF)が注目されている。当研究室では、これまでにDF対応可能なウェットプロセスによる緻密なバリア構造を開発してきた。室温、真空紫外光(VUV光)による光焼成技術が特徴である。本プログラムでは、ガラス並の水蒸気バリア構造をインクジェットプロセス+VUV光焼成にて形成する。多くのデバイス・モジュールにはバリア(パッシベーション)構造が含まれており、必要な場所に必要な性能のバリア構造を、容易なデジタルファブリケーションにより製造することで、コロナ時代のものづくり変革の一助となる。

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研究制度：＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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